
由于具有极高峰值电流脉冲,MAGPULS HPP型脉冲电源可产生具有极高等离子体密度的等离子体脉冲,从而在高功率脉冲磁控溅射技术 (HIPIMS) 中实现出色的镀膜质量。
· 在耐磨性、粘合强度、硬度和均匀性方面具有优异的薄膜性能
· 轻松集成到现有的磁控溅射系统中
新型 PVD HIPIMS 溅射可生产具有非常好的耐磨损和抗腐蚀性的硬涂层。脉冲功率高达 12MW,可以产生极高的电离密度。进一步的应用是表面和沟槽填充和刻蚀的等离子处理。

由于具有极高峰值电流脉冲,MAGPULS HPP型脉冲电源可产生具有极高等离子体密度的等离子体脉冲,从而在高功率脉冲磁控溅射技术 (HIPIMS) 中实现出色的镀膜质量。
· 在耐磨性、粘合强度、硬度和均匀性方面具有优异的薄膜性能
· 轻松集成到现有的磁控溅射系统中
新型 PVD HIPIMS 溅射可生产具有非常好的耐磨损和抗腐蚀性的硬涂层。脉冲功率高达 12MW,可以产生极高的电离密度。进一步的应用是表面和沟槽填充和刻蚀的等离子处理。