◆ 数据获取

EMICON系列光谱仪可以获得等离子体应用的各种测量数据。由光纤光谱仪构成的等离子体发射模块可以快速连续地获得从紫外到近红外的整个光谱; HIPIMS/脉冲模块可以用MHz范围的电压信号触发；膜层控制模块可以获得膜层生长过程的反射和透射光谱。此外，还可以把附加传感器的信号通过模拟信号输入接口导入到设备中。

实时控制等离子体过程参数

从获得的发射谱数据中，可以选取任意数量的等离子体谱线，并同时观测和追踪它们的强度，这样就可以连续监控等离子体的条件和构成。HIPIMS/脉冲模块可以提供电压和电流值，比如HIPIMS过程的峰值电流。膜层控制模块可以基于宽带光谱计算出膜层厚度，或者基于标准颜色空间的颜色值。所有数据都是实时数据，都可以以时间为函数进行显示，进行控制追踪。总的来说，可以实时提供等离子体过程的完整状态信息。

◆ 过程分析

所有监测跟踪数据和原始数据都可以存储，以供归档和离线分析。存储的数据可以用EMICON软件查看，通过对原始数据的分析可以对等离子体过程进行深入的分析。

◆ 过程优化

系统的高速数据获取和评估能力使得对等离子体过程进行实时控制成为可能。该系统可以对等离子体过程参数的变化瞬间做出反馈，从而成为优化等离子体过程不可或缺的工具。

◆ 过程控制

利用模拟和数字输出和输入接口，可以输出所监控跟踪的数值：连续或阈值信号。集成式PID控制功能可以对主动控制气体流动和反应式溅射进行闭环控制。多种数学和逻辑操作可以应用到监控跟踪中，这些特性可以用来制定复杂的终点检测方案，以及对等离子体过程条件的偏离进行探测。

先进的系统软件和系统集成

EMICON系统由直观的图形用户界面操作和配置，软件的配置非常灵活，高度聚焦于相关数据，可以直接给出特定反应过程的全部状态，所有的设置都可以以配方形式存储并调用。